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高分辨率光譜儀HR2

更新時間：2024-09-26

簡要描述：

高分辨率光譜儀HR2
HR2 光譜儀性能可靠，采集速度快，波長熱穩(wěn)定性好，適用于等離子監(jiān)測，藥物分析等應(yīng)用。其堅固耐用的設(shè)計使 HR2 成為OEM集成的理想之選。

HR2 光譜儀

高速采集和高分辨率

HR2 光譜儀性能可靠，采集速度快，波長熱穩(wěn)定性好，適用于等離子監(jiān)測，藥物分析等應(yīng)用。其堅固耐用的設(shè)計使 HR2 成為OEM集成的理想之選。

高分辨率光譜儀HR2

高分辨率光譜儀HR2

HR2 系列

型號	波長范圍	分辨率（FWHM)	刻線密度（線/毫米）	閃耀波段
UV-Vis	250 – 400 nm	0.12 – 1.22 nm	1800	Holographic
UV-Vis	220 – 410 nm	0.17 – 1.68 nm	1200	Holographic
UV-Vis	220 – 880 nm	0.52 – 5.36 nm	400	250 nm
UV-Vis	220 – 650 nm	0.35 – 3.52 nm	600	300 nm
UV-Vis	250 – 700 nm	0.44 – 4.44 nm	500	330 nm
Vis-NIR	350 – 800 nm	0.35 – 3.52 nm	600	400 nm
Vis-NIR	450 – 530 nm	0.08 – 0.77 nm	2400	Holographic
Vis-NIR	400 – 850 nm	0.35 – 3.52 nm	600	500 nm
Vis-NIR	450 – 650 nm	0.17 – 1.68 nm	1200	Holographic
Vis-NIR	530 – 645 nm	0.12 – 1.22 nm	1800	Holographic
Vis-NIR	350 – 1025 nm	0.53 – 5.36 nm	400	400 nm
Vis-NIR	520 – 955 nm	0.35 – 3.52 nm	600	750 nm
NIR	750 – 1000 nm	0.27 – 2.75 nm	900	500 nm
NIR	750 – 900 nm	0.16 – 1.68 nm	1200	750 nm
NIR	750 – 1100 nm	0.35 – 3.52 nm	600	1000 nm
Extended-range	200 – 1000 nm	0.71 – 7.19 nm	300	200 nm
Extended-range	220 – 1100 nm	0.71 – 7.19 nm	300	Composite
Extended-range	220 – 1100 nm	0.71 – 7.19 nm	300	500 nm
Slit Options	5, 10, 25, 50, 100, 200 µm
積分時間	1 μs – 2 s
信噪比（單次掃描@10ms）	380:1
信噪比（高速平均模式）	25,800:1
接口	SMA, TFM-108-02-L-DH Samtec, USB Type-C
尺寸	148.8 x 106.4 x 48.2 mm
重量	0.9306 kg
溫度（工作）	0 °C – 55 °C
溫度（存儲）	-30 °C – 70 °C
適合的應(yīng)用	原子發(fā)射線檢測高速光譜采集 LED/激光特性表征生物發(fā)酵罐清洗檢測

高分辨率光譜儀HR2

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1）激光控制：激光電流源、激光器溫控器、激光器控制、伺服設(shè)備與系統(tǒng)等等

2）探測器：光電探測器、單光子計數(shù)器、單光子探測器、CCD、光譜分析系統(tǒng)等等

3）定位與加工：納米定位系統(tǒng)、微納運動系統(tǒng)、多維位移臺、旋轉(zhuǎn)臺、微型操作器等等

4）光源：半導(dǎo)體激光器、固體激光器、單頻激光器、單縱模激光器、窄線寬激光器、

光通訊波段激光器、CO2激光器、中紅外激光器、染料激光器、飛秒超快激光器等等

5）光機(jī)械件：用于光路系統(tǒng)搭建的高品質(zhì)無應(yīng)力光機(jī)械件，如光學(xué)調(diào)整架、鏡架、

支撐桿、固定底座等等

6）光學(xué)平臺：主動隔振平臺、氣浮隔振臺、實驗桌、剛性工作臺、面包板、隔振、隔磁、

隔聲綜合解決方案等等

7）光學(xué)元件：各類晶體、光纖、偏轉(zhuǎn)鏡、反射鏡、透射鏡、半透半反鏡、濾光片、

衰減片、玻片等等

8）染料：激光染料、熒光染料、光致變色染料、光致發(fā)光染料、吸收染料等等

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